1沉積速度快，如激光鍍金可達1μm/s ，激光鍍銅可達10μm/s，激光噴射鍍金可達12μm/s，激光噴射鍍銅可達50μm/s；

2金屬沉積僅發(fā)生在激光照射區(qū)域，無需采用屏蔽措施便可得到局部沉積鍍層，從而簡化了生產工藝；

3電鍍層結合力大大提高；

4容易實現自動控制；

5節(jié)約貴金屬；

6節(jié)省設備投資和加工時間。